Solução Total de Ar Limpo de Microeletrônica

Solução geral de microeletrônica
Com a transformação bem-sucedida da China de um "gigante da manufatura" para um "gigante da manufatura de qualidade", um grande número de empresas de manufatura de alta tecnologia bem conhecidas surgiram no país, e muitos projetos de alta tecnologia também foram implementados e realizados em muitos lugares do país.
Não muito tempo atrás, uma fábrica de wafer de 12 polegadas que acabou de ser construída na China se concentrará na pesquisa e desenvolvimento da tecnologia de processo de 19 nm para a produção de DRAM (Dynamic Random Access Memory). Depois que o projeto for colocado em operação, a capacidade máxima de produção mensal chegará a 125.000 wafers, preenchendo efetivamente a lacuna na indústria de fabricação de DRAM de ponta da China e ocupando um lugar entre os fabricantes globais de DRAM.

Proteja o "chip chinês"
O comissionamento deste projeto também impulsionará o desenvolvimento abrangente de toda a região do Delta do Rio das Pérolas, incluindo equipamentos, materiais, terminais e outros aspectos. Pode-se dizer que o comissionamento desta fábrica de fabricação de wafer acelerará o ritmo da transformação industrial e atualização em Hefei.
É relatado que até 2025, a China colocará em operação aproximadamente 25 projetos de wafer de 12 polegadas, quebrando o sistema de monopólio da indústria de empresas estrangeiras de uma só vez.

Problemas e dificuldades
Algumas dificuldades também foram encontradas durante a construção da fábrica e a aquisição de equipamentos. Do ponto de vista técnico, ao usar a tecnologia de processo de 19 nm para produzir DRAM, a área de litografia de luz amarela sob esse processo é extremamente sensível ao gás AMCs. Mesmo um pequeno desvio na qualidade do ar limpo na área de trabalho afetará diretamente a taxa de rendimento da produção final. Portanto, o valor de concentração do ambiente de processo AMC precisa ser estritamente controlado durante todo o processo de produção.

Solução final
Como um dos líderes globais em soluções de ar limpo, a RZJ está comprometida em desenvolver soluções de filtragem altamente eficientes e com economia de energia para a indústria de microeletrônica há quase um século, incluindo material particulado e filtragem AMC. Sua gama completa de produtos abrange filtros de ar grossos, de média e alta eficiência, filtros químicos, filtros domésticos, capelas de fluxo laminar e outros equipamentos de purificação. Em resposta às demandas desse processo de cristalização complexo e de alto nível, a AAF adotou uma solução de tratamento químico de gás de carregamento FFU. Dois filtros químicos foram sobrepostos ao FFU, e testes de amostragem no local dos AMCs foram fornecidos para extrair e organizar com rapidez e precisão os dados de qualidade do ar no ambiente real e, com base nisso, soluções razoáveis foram formuladas.

Rigoroso controle de qualidade e um sistema de teste completo
O tempo todo, a RZJ assumiu a responsabilidade de proteger o meio ambiente, reduzir os riscos da empresa e reduzir as despesas de purificação do ar. Em certa medida, a busca pela excelência em seus produtos também decorre de sua própria prática. A própria AAF possui salas limpas de PTFE de nível 10.000 de alto grau de limpeza, salas limpas de filtro de alta eficiência, salas limpas FFU e linhas de produção de filtros industriais e comerciais. O RZJ está equipado com instalações avançadas. A produção é realizada com processos de produção padronizados e rigorosos padrões de qualidade.
Além disso, a RZJ possui um sistema de teste completo. De filtros grossos, médios e de alta eficiência a filtros de alta e ultra-alta eficiência, bem como equipamentos de filtragem, a RZJ realiza testes de desempenho completos em produtos de acordo com os padrões de teste avançados da indústria.
Do ponto de vista da produção, o processo de fabricação de produtos microeletrônicos é complexo e numeroso, e muitos processos-chave precisam ser realizados em um ambiente livre de poeira com temperatura, umidade e ultralimpeza constantes. Equipamentos de produção de grande e médio porte de peça única liberarão material particulado de alta concentração e substâncias químicas, o que causará um declínio no rendimento dos produtos produzidos e trará outros riscos à segurança ao mesmo tempo. Portanto, a indústria de microeletrônica tem requisitos e padrões técnicos muito altos para o efeito de design e limpeza de salas limpas industriais durante o processo de produção.
Sistema de classificação SEMI F21-1102 para quatro tipos de poluentes gasosos
A unidade de concentração é pptM (partes por trilhão de modal) de 10-12 trilionésimos de mol